ファブフロアにおけるアッシングは選択肢ではなく、フォトレジストを下層膜に影響を与えずに確実に除去するための熱処理ステップである。温度がずれたりプロファイルが崩れたりすると、残渣が発生する。これによりライン歩留まりが低下し、リソグラフィスタック全体に影響が及ぶ。
重要なポイント
短波赤外線を用い、クォーツハロゲンエミッターアレイによる応答性の高く再現性のある加熱源を軸にアッシングヒーターを設計した。ベイクゾーン全体でウェーハレベルの均一性を±0.1℃以内に保ち、剥離サイクル全体を通して設定温度を維持する温度制御を実現している。システムはClass 1–100クリーンルーム内での稼働を想定し、インサイチュモニタリングによりパーティクル発生ゼロを検証している。出力は5,000時間以上安定し、強度のドリフトは5%未満に抑えられている。
フローに適合する理由
フォトレジスト処理（ソフトベイク、露光、現像、ハードベイク、アッシング）において、再現性のある温度管理が熱予算の要となる。当社の赤外線加熱は立ち上がりが速く、冷却も迅速で、実行ごとにプロファイルを同一に保つ。これにより再作業ロットの削減、スクラップ率の低減、安定したサイクルタイムを実現する。エネルギー消費は、エミッター出力が最悪ケースではなく実負荷に応じて制御されるため抑えられる。モジュールは既存のトラックおよびストリップツールに、標準的な機械的・電気的インターフェースで組み込める。
実務上の詳細
赤外線アッシングはクリーンかつ制御された加熱を提供するが、光学系及びエミッタウィンドウは厳格なクリーンルームでの取り扱いが必要となる。設置直後に迅速なアライメントおよび熱マッピングを計画し、定期的に四半期ごとのウィンドウ検査をスケジュールしてパーティクルカウントを管理することが推奨される。この運用管理によってプロセスは仕様内に維持され、ラインは安定稼働を継続する。