以下に、次の分類用語を使用するページがあります “プロセス” アッシングプロセス加熱赤外線 ファブフロアにおけるアッシングは選択肢ではなく、フォトレジストを下層膜に影響を与えずに確実に除去するための熱処理ステップである。温度がずれたりプロファイルが崩れたりすると、残渣が発生する。これによりライン歩留まりが低下し、リソグラフィスタック全体に影響が及ぶ。 重要なポイント 短波赤外線を用い、ク... Read more...
アッシングプロセス加熱赤外線 ファブフロアにおけるアッシングは選択肢ではなく、フォトレジストを下層膜に影響を与えずに確実に除去するための熱処理ステップである。温度がずれたりプロファイルが崩れたりすると、残渣が発生する。これによりライン歩留まりが低下し、リソグラフィスタック全体に影響が及ぶ。 重要なポイント 短波赤外線を用い、ク... Read more...