标签为“烘烤;焙”的页面如下 曝光后烘烤 PEB 加热器 在光刻工序中,PEB阶段的温度偏差会迅速导致CD值的偏差以及图案位置的偏移。即使晶圆表面的温度差异仅为1°C,也足以使光刻胶的厚度不符合标准,从而浪费大量的工作时间。我们设计的PEB加热器能够将晶圆表面的温度控制在工艺要求的范围内,确保每批产品的质量稳定。 关键在于控制温度均匀性 我们使用短波红外... Read more...
曝光后烘烤 PEB 加热器 在光刻工序中,PEB阶段的温度偏差会迅速导致CD值的偏差以及图案位置的偏移。即使晶圆表面的温度差异仅为1°C,也足以使光刻胶的厚度不符合标准,从而浪费大量的工作时间。我们设计的PEB加热器能够将晶圆表面的温度控制在工艺要求的范围内,确保每批产品的质量稳定。 关键在于控制温度均匀性 我们使用短波红外... Read more...