Üretim alanında, tek bir su izi bile tüm ürün partisini mahvedebilir. Geleneksel kurutma yöntemleri oldukça hassas bir denge gerektirir; bir yanda termal stres, diğer yanda ise parçacık kirliliği sorunu vardır. Litografi işlemlerinde ise hata payına yer yoktur; foto direnç işlemleri sırasında meydana gelen 0,5°C’lik bir değişiklik bile ürünün boyutlarını bozacaktır. Bu tür değişkenlikleri ortadan kaldırmak için waferleri kurutmak amacıyla halojen IR vericileri geliştirdik.
Teknik olarak önemli olanlar
Kvartz koruma kabının içinde, saniyeler içinde doğrudan IR ışını yayan kısa dalga boylu halojen lambalar bulunur. Hedef bölgedeki sıcaklık değerlerini ±0,1°C aralığında sabit tutarız ve kapalı döngü kontrolü sayesinde her işlemde aynı sonuçlar elde edilir. Sistem, 1–100 sınıfı temiz odalarda hiçbir parçacık olmadan çalışır ve termal profil de stabil kalır; böylece waferin termal dengesi korunurken nem de etkili bir şekilde uzaklaştırılır.
Neden burada işe yarıyor?
Waferler temizlendikten sonra, yüzey bütünlüğünü bozmayacak şekilde hızlı bir şekilde kurutulması gereklidir. Halojen IR lambaları yalnızca hedef alanı ısıtır; bu sayede oda soğuk kalır ve çevredeki donanımlar herhangi bir yük hissetmez. Böylece daha hızlı işlem süreleri, daha düşük enerji tüketimi ve tutarlı bir kurutma sağlanır. İşlem penceresi daralır ve verimlilik artar; çünkü kurutma sıcaklığı her seferinde reçetede belirtildiği gibidir.
Bilmeniz gerekenler
Kurulum sırasında hassas optik hizalamaya ve spektral stabilitenin korunması için özel güç düzenlemelerine ihtiyaç vardır. Uyumsuz reflektörler veya değişen voltajlar ayar noktalarını bozar. Vericiler yüksek yoğunlukta çalıştığından, termal izolasyon ve güvenlik önlemleri de işlem prosedürünün bir parçasıdır. Lambaların 5.000 saat kullanımdan sonra değiştirilmesi gerekmektedir; bu işlem planlı bakım zamanlarında yapılmalıdır. Böylece üretimin kesintisiz devam etmesi sağlanır.