リソグラフィーフロアでは、PEBの温度誤差は、CDの偏差やオーバーレイのずれを引き起こす大きな要因となります。ウェハ全体にわたって1℃の温度不均一があるだけで、フォトレジストのパターンが規格から外れてしまい、何時間もかけて行った作業が無駄になってしまいます。私たちは、このような状況を防ぐために、露光後の加熱装置を設計しました。これにより、工程内での温度管理が可能になります。
重要なのは何か 私たちは、クォーツ製の窓の後ろに短波長赤外線ヘーターを配置し、迅速かつ直接的な加熱を実現しています。そのおかげで、ウェハ全体の温度均一性は±0.1℃以内に保たれ、繰り返し性もミリ秒単位で実現されます。つまり、第1ロットでも第1000ロットでも同じような温度管理が可能です。この装置は、クラス1～100のクリーンルームで使用でき、放出ガスが少なく、粒子の発生も抑えられています。加熱中に粒子が発生しないことは当然のことであり、ツールのインターフェースで直接粒子の監視が行われています。
フォトレジスト処理における重要性 PEB工程は、露光と現像の間に位置しています。ここで化学的な増幅が完了し、ライン幅が決定されます。私たちの加熱装置により、この工程が安定して行われ、CDのばらつきやそれに伴う再作業が減少します。また、同じプラットフォームでソフトベイクとハードベイクの両方が可能であり、レシピに基づいて加熱プロファイルを調整することで、サイクルタイムを短縮しつつもパターンの精度を維持できます。さらに、SWIRはチャンバーの壁ではなく直接ウェハを加熱するため、エネルギーの消費も削減されます。
実用上の注意点 設置時には、チャンバーの形状やツールのインターフェースに合わせる必要があります。組み込む前に、機械的な構造や冷却水路、電気的な接続を確認してください。 SWIRにより迅速な加熱が可能ですが、温度の均一性を維持するためには、光学的位置合わせや窓の清潔さを常に管理する必要があります。長期間の生産を行う際には、定期的に窓の点検やランプの交換を行い、温度プロファイルが維持されるようにしてください。