V provozu výroby stačí změna teploty o 1 °C během procesu měkkého zahřívání fotorezistoru k tomu, aby došlo ke změnám kritických rozměrů čipů a bylo nutné zahodit spoustu destiček. Konvenční pece zahřívají celou komoru, ne samotnou destičku. My jsme vytvořili systém zónového zahřívání, který umožňuje přivést teplo přímo na destičku – přičemž se zachovává teplotní rozsah potřebný pro každou vrstvu na destičce.
Co je z technického hlediska důležité
Naše zónové infračervené moduly zajišťují rovnoměrnost teploty na úrovni destičky v rozsahu ±0,1 °C v celé aktivní zóně. Opakovatelnost hodnot teploty zůstává v rozsahu ±0,5 °C po tisících cyklůch. Krátkovlnné emitory umožňují rychlé dosažení požadovaných teplot během procesů měkkého a tvrdého zahřívání. Konstrukce bez uhlíkových vláken snižuje množství částic v prostředích typu Class 1–100. Systém funguje 24/7 s funkcí prediktivní kompenzace teplotních odchylek, což zajišťuje stabilitu výstupní teploty i po více než 5 000 hodinách provozu.
To funguje v litografických linkách právě díky této přesnosti – umožňuje lepší kontrolu rozměrů čipů a omezuje potřebu dalších oprav. Při sušení destiček a odstraňování nečistot na jejich okrajích umožňuje cílené zónové zahřívání rychlejší odpařování rozpouštědel, aniž by došlo k poškození podkladu. Díky tomu se zvyšuje výkon a snižuje spotřeba energie.
Profily zahřívání fotorezistoru zůstávají opakovaně stejné, což snižuje variabilitu mezi jednotlivými stroji. Získáte tak větší kontrolu nad procesem a nemusíte trávit čas doladěním parametrů jen proto, abyste kompenzovali teplotní odchylky.
Praktické detaily
Zónové zahřívání musí být pevně integrované s platformou určenou k nanášení látek nebo k zahřívání – zóny s lampami musí být synchronizovány s pohybem mechanismů na destičce. Modifikace jsou možné, ale je potřeba ověřit mechanické parametry a trasování chladicí kapaliny pro každý konkrétní stroj.
Je také nutné zajistit odpady vhodné pro čisté prostředí a ochranu před elektromagnetickými rušeními, zejména v blízkosti zařízení citlivých na rušení. Výhody se projeví okamžitě, jakmile teplotní profil přestane být skrytou proměnnou v modelech výkonu.