Di ruang litografi, ralat suhu PEB boleh menyebabkan perubahan ketara pada ukuran CD dan kesilapan dalam proses penghasilan cip. Perbezaan suhu sebanyak 1°C pada permukaan wafer sudah cukup untuk mengganggu profil fotoreseptor, sehingga membuang masa berjam-jam yang telah digunakan untuk proses pengeluaran. Kami telah mencipta pemanas PEB yang mampu mengekalkan profil suhu dalam julat yang ditetapkan, dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain.
Apa yang penting dalam proses ini
Kami menggunakan unsur halogen jenis gelombang inframerah pendek (SWIR) di belakang tingkap kuarsa untuk memastikan pemanasan yang cepat dan tepat. Kestabilan suhu pada permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan pemantauan suhu berlaku dalam masa milisaat sahaja. Ini memastikan bahawa profil suhu yang sama dapat dicapai untuk setiap kumpulan wafer, sama ada yang pertama atau yang ke-1000. Modul ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang kurang mengeluarkan gas dan laluan yang dikawal dengan baik. Tidak ada penghasilan zarah semasa proses pemanasan, kerana ia dipantau secara langsung pada antaramuka alat tersebut.
Mengapa ini penting dalam proses fotoreseptor
Langkah PEB berlaku antara proses pendedahan cahaya dan proses pengembangan cip. Di sinilah proses pengukuhan kimia berlaku, dan lebar garisan pada cip pun ditentukan. Pemanas yang digunakan membantu mengekalkan kestabilan suhu, sekali gus mengurangkan variasi ukuran CD serta masalah yang timbul akibatnya. Platform yang sama juga boleh digunakan untuk proses pemanasan jenis “soft bake” dan “hard bake”. Profil pemanasan yang dikawal dengan baik membolehkan masa proses dipendekkan tanpa mengorbankan kualiti hasilnya. Selain itu, kerana SWIR memanaskan wafer secara langsung, penggunaan tenaga pun berkurangan.
Beberapa nota praktikal
Proses pemasangan memerlukan penyesuaian yang tepat antara saiz ruang produksi dan antaramuka alat. Sebelum memasangnya, pastikan semua komponen mekanikal, saluran pendingin, dan sistem elektrik berfungsi dengan baik. SWIR memberikan respons yang cepat, tetapi anda perlu memastikan penyesuaian optik dan kebersihan tingkap berada dalam keadaan baik agar kestabilan suhu dapat dipertahankan. Lakukan pemeriksaan berkala pada tingkap dan lampu agar profil suhu tetap stabil sepanjang proses pengeluaran.