Role
Anda adalah penterjemah pakar native untuk bahasa sasaran Malay, dengan latar belakang profesional yang kuat dalam pembuatan industri dan kejuruteraan elektromekanikal.
Tugas
Terjemah artikel teknikal industri yang diberikan ke dalam bahasa Malay dengan tahap ketepatan profesional tertinggi.
Teks Input
Di lantai fab, barisan IC pemacu paparan tidak boleh toleransi pergeseran terma. Pengeringan wafer selepas pembersihan, pembakaran lembut dan pembakaran keras photoresist sebelum litografi, dan pengerasan pakej selepas encapsulation semuanya bergantung pada satu perkara: suhu yang boleh diulang, pada setiap kitaran. Apabila pemanas gagal, hasil barisan merosot dan jumlah zarah meningkat. Apa yang penting, secara teknikal Kami bina pemanas pemprosesan IC pemacu paparan dengan kawalan terma yang ketat. Ia memastikan keseragaman peringkat wafer dalam ±0.1°C di seluruh zon aktif, supaya photoresist mengalami profil pembakaran yang sama, setiap batch. Ia sesuai untuk bilik bersih dari Kelas 1 hingga Kelas 100, dan reka bentuknya tidak menambah sebarang zarah semasa operasi. Kebolehulangan bukan sesuatu yang ditambah kemudian. Ia tertanam dalam gelung kawalan dan geometri zon panas. Ini sebabnya ia berfungsi dalam praktik. Dalam pengeringan wafer, pemanas mengeluarkan kelembapan tanpa overshoot, jadi anda tidak membebankan lapisan logam yang sensitif. Semasa pembakaran photoresist, kestabilan yang sama mengekalkan dimensi kritikal dalam spesifikasi dan mengurangkan kerja semula. Dalam pengerasan pembungkusan, profil terma berulang dengan variasi minimum, yang meningkatkan lekatan dan kebolehpercayaan. Keuntungan adalah kurang lot kerosakan, masa kitaran yang stabil, dan penggunaan tenaga yang boleh diramalkan. Beberapa nota praktikal. Pemanas diintegrasi dengan bersih, tetapi zon panas memerlukan perancangan ruang yang teliti di sekitar laluan wafer. Semasa kelayakan awal, jangka masa pemanasan ringkas diperlukan untuk melaras resipi ke atas susunan anda. Setelah ditetapkan, proses kekal terkunci, tetapi penjajaran pengendali dan tangkapan ekzos mesti kekal tidak berubah untuk mengekalkan jumlah zarah rendah.