Di bilik pemprosesan wafer, walaupun terdapat sedikit kesilapan semasa proses pengeringan, ia boleh merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Kaedah pengeringan konvensional mempunyai kelemahan tersendiri – tekanan haba di satu sisi, manakala pencemaran zarah pula berlaku di sisi yang lain. Dalam proses litografi, kita tidak boleh mengambil risiko sedikit pun; perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemprosesan fotoresist boleh merosakkan dimensi penting wafer tersebut. Oleh itu, kami mencipta penjana inframerah halogen untuk tujuan pengeringan wafer, agar variasi suhu dapat dikurangkan.
Apa yang penting dari segi teknikalnya: Di dalam kotak kuarza tersebut terdapat lampu halogen gelombang pendek yang menghasilkan sinar inframerah dengan masa tindak balas yang sangat cepat. Suhu di kawasan yang diproses dapat dikekalkan pada tahap yang seragam, iaitu dalam lingkungan ±0.1°C. Sistem kawalan berputar pula memastikan proses pengeringan berjalan secara konsisten dari satu sesi ke sesi yang lain. Sistem ini beroperasi tanpa sebarang gangguan zarah di bilik bersih kelas 1–100, dan profil haba juga tetap stabil – ini memastikan suhu wafer kekal terkawal sambil menghilangkan kelembapan tanpa menyebabkan kesan negatif pada permukaan wafer.
Mengapa ia berkesan: Selepas wafer dibersihkan, ia perlu dikeringkan dengan cepat, tetapi tanpa merosakkan integriti permukaannya. Lampu halogen inframerah hanya memanaskan bahagian yang perlu dikeringkan, jadi bilik tersebut tetap sejuk, dan peralatan di sekelilingnya tidak terkesan dengan beban haba tersebut. Ini membolehkan masa proses menjadi lebih singkat, penggunaan tenaga berkurangan, dan proses pengeringan menjadi lebih konsisten, sehingga fotoresist tetap melekat pada permukaan wafer semasa proses pemprosesan.
Apa yang perlu diketahui: Pemasangan sistem ini memerlukan penyesuaian optik yang tepat serta sistem pengawalan kuasa yang baik untuk mengekalkan stabiliti spektrum cahaya. Reflektor yang tidak sesuai atau voltan yang tidak stabil boleh menyebabkan perubahan pada nilai suhu yang ditetapkan. Penjana inframerah ini beroperasi pada intensiti yang tinggi, jadi pengasingan haba dan mekanisme kawalan perlu diambil kira sebagai sebahagian daripada proses pengoperasian sistem ini. Gantikan lampu tersebut setiap 5,000 jam, dan lakukan penggantian tersebut semasa waktu penyelenggaraan yang telah dirancang. Dengan cara ini, masa operasi sistem dapat dipertahankan, dan kualiti produk dapat dijamin.