Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan photoresist sudah cukup untuk merosakkan dimensi penting wafer tersebut, sehingga menyebabkan banyak wafer menjadi tidak boleh digunakan. Ketuhar konvensional akan memanaskan seluruh ruang, bukannya wafer itu sendiri. Kami menggunakan sistem pemanasan berzone agar haba dapat disalurkan tepat ke permukaan wafer, sambil tetap memastikan suhu tidak melebihi had yang ditetapkan.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Modul inframerah berteknologi zon ini memastikan suhu di permukaan wafer kekal stabil dalam lingkungan ±0.1°C di kawasan yang aktif. Ketepatan suhu juga kekal dalam lingkungan ±0.5°C walaupun selepas ribuan kitaran pemprosesan. Emitter gelombang pendek membantu mencapai suhu yang diperlukan dengan cepat, manakala reka bentuk tanpa serat karbon pula membantu mengurangkan jumlah zarah di kawasan yang diperlukan—dalam persekitaran kelas 1–100. Sistem ini beroperasi 24/7 dengan adanya mekanisme kompensasi perubahan suhu, sehingga prestasinya kekal stabil walaupun selepas 5,000 jam penggunaan.
Inilah sebabnya mengapa sistem ini berkesan dalam proses litografi: ketepatan ini membolehkan kawalan yang lebih baik terhadap dimensi wafer, serta mengurangkan keperluan untuk memproses semula wafer. Untuk proses pengeringan wafer dan penghapusan zarah di tepi wafer, sistem pemanasan berzone membantu mempercepat proses penyejatan pelarut, tanpa merosakkan substrat. Dengan ini, kelajuan pengeluaran meningkat, dan penggunaan tenaga pula berkurangan.
Profil pemanasan photoresist juga kekal konsisten dari satu kumpulan produk ke kumpulan yang lain, sekali gus mengurangkan variasi antara mesin yang berbeza. Ini membolehkan kita mendapatkan hasil yang lebih konsisten, dan mengurangkan masa yang diperlukan untuk menyesuaikan proses pengeluaran akibat ketidakkonsistenan suhu.
Butiran praktikalnya:
Sistem pemanasan berzone perlu disatukan dengan baik dengan platform penyemprotan atau pemanggang wafer—zona lampu perlu disinkronkan dengan gerakan rotor wafer. Penyesuaian sistem ini boleh dilakukan, tetapi perlu dipastikan bahawa komponen mekanikal dan saluranPendinginan berfungsi dengan baik untuk setiap alat yang digunakan. Perlu juga dipastikan adanya sistem pengudaraan yang sesuai untuk bilik bersih, serta perlindungan terhadap gangguan elektromagnetik, terutamanya di sekitar peralatan yang sensitif terhadap gangguan tersebut. Kelebihan sistem ini dapat dirasai sebaik sahaja profil suhu tidak lagi menjadi faktor yang mempengaruhi hasil pengeluaran.