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재화 과정 가열 적외선

재화 과정 가열 적외선

Fab 플로어에서의 애싱은 선택이 아닌 필수 공정입니다. 포토레지스트를 필름 아래에 영향을 주지 않고 완전히 제거하는 열처리 단계입니다. 온도가 변동하거나 프로파일이 떨어지면 잔류물이 발생합니다. 이는 라인 수율 저하로 이어지고, 리소그래피 적층 공정에 영향을 미칩니...
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