노출 후 가열기(PEB)

리소그래피 공정에서 PEB 온도의 오차는 CD의 편차나 오버레이 문제를 유발하는 주된 원인입니다. 웨이퍼 전체에 걸쳐 1°C만큼의 온도 불균일성이 발생해도 포토레지스트의 프로파일이 규격을 벗어나게 되어, 수시간 동안의 작업이 낭비될 수 있습니다. 저희는 이러한 문제를...