Di area litografi, kesalahan suhu PEB merupakan penyebab utama terjadinya penyimpangan ukuran CD dan pergeseran pola permukaan wafer. Perbedaan suhu sebesar 1°C di seluruh permukaan wafer saja sudah cukup untuk membuat profil fotoresist tidak sesuai standar, sehingga membuang-buang waktu kerja yang telah dihabiskan untuk proses produksi. Kami merancang pemanas PEB sedemikian rupa agar suhu tetap berada dalam kisaran yang ditentukan, dari batch ke batch.
Apa yang penting dalam proses ini? Kami menggunakan elemen pemanas inframerah gelombang pendek (SWIR) di balik kaca kuarsa, sehingga panas dapat disalurkan secara cepat dan langsung ke wafer. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada pada kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitasnya sangat tinggi, yaitu dalam hitungan milidetik. Dengan demikian, kondisi termal yang sama akan diperoleh baik untuk batch pertama maupun batch ke-1000. Modul ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, karena memiliki bahan-bahan yang menghasilkan emisi gas yang rendah serta jalur aliran partikel yang terkontrol. Tidak ada pembentukan partikel sama sekali selama proses pemanasan, hal ini dapat dipastikan melalui pemantauan partikel secara langsung di titik interaksi antara alat dan wafer.
Mengapa hal ini penting dalam proses pengolahan fotoresist? Langkah PEB berada di antara tahap eksposur dan pengembangan. Di sinilah proses amplifikasi kimia berlangsung, dan lebar garis pada permukaan wafer ditentukan. Pemanas yang kami gunakan membantu menjaga stabilitas kondisi termal selama proses ini, sehingga variasi ukuran CD dapat dikurangi, serta menghindari kebutuhan untuk melakukan pekerjaan ulang. Platform yang sama juga dapat digunakan untuk proses pemanasan jenis “soft bake” dan “hard bake”. Profil pemanasan yang diatur secara otomatis memungkinkan pengurangan waktu proses tanpa mengorbankan kontrol terhadap kondisi termal. Karena SWIR memanaskan wafer secara langsung, bukan dinding ruang, maka konsumsi energi pun berkurang.
Beberapa catatan praktis: Pemasangan modul ini membutuhkan penyesuaian ukuran ruang dan antarmuka alat. Sebelum memasangnya, pastikan bahwa komponen mekanis, saluran pendingin, dan sistem listrik sudah siap. SWIR memberikan respons yang cepat, tetapi Anda perlu memastikan bahwa keseimbangan optik dan kebersihan kaca tetap terjaga agar keseragaman suhu tetap terjaga. Aturlah jadwal pemeriksaan kaca dan penggantian lampu agar kondisi termal tetap stabil selama proses produksi berlangsung.