מחמם לאחר חשיפה (PEB)

בשלב הליתוגרפיה, שגיאות בטמפרטורה של המערכת PEB עלולות לגרום לשינויים ברוחב הקווים על הוואפר, ולכן יש צורך בשליטה קפדנית בטמפרטורה. שונות של 1°C בין...