<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Nướng on Infrared Quartz Heat Solutions</title>
		<link>http://infra-quartz-heat.com/vi/tags/n%C6%B0%E1%BB%9Bng/</link>
		<description>Recent content in Nướng on Infrared Quartz Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infra-quartz-heat.com/vi/tags/n%C6%B0%E1%BB%9Bng/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Máy sấy sau quá trình phơi sáng (PEB)</title>
				<link>http://infra-quartz-heat.com/vi/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800</pubDate>
				<guid>http://infra-quartz-heat.com/vi/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Máy sấy sau quá trình phơi sáng (PEB)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, sai số nhiệt độ của PEB là yếu tố gây ra sự sai lệch về kích thước của các đường nét trên wafer. Chỉ cần có sự chênh lệch nhiệt độ 1°C trên bề mặt &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;wafer&lt;/a&gt; thôi cũng đủ để làm cho các đặc tính của lớp photoresist không còn nằm trong giới hạn cho phép, từ đó phải lãng phí hàng giờ làm việc. Chúng tôi đã thiết kế các bộ gia nhiệt PEB sao cho nhiệt độ được kiểm soát chặt chẽ, nhằm duy trì độ ổn định nhiệt độ trong suốt quá trình sản xuất.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
