Hệ thống sưởi ấm theo từng khu vực trong nhà máy sản xuất wafer hiện đại

Thu, 02 Jul 2026 09:40:56 +0800

Trong quy trình nung phim quang học, sự thay đổi nhiệt độ chỉ 1°C cũng đủ khiến các kích thước quan trọng của wafer bị ảnh hưởng, dẫn đến việc phải vứt bỏ rất nhiều wafer. Các lò nung thông thường chỉ làm nóng toàn bộ buồng lò, chứ không phải chính wafer. Chúng tôi thiết kế hệ thống làm nóng theo từng vùng cụ thể, nhằm đưa nhiệt lượng trực tiếp vào vị trí cần thiết – ngay trên bề mặt wafer – đồng thời vẫn giữ được mức nhiệt phù hợp với yêu cầu của từng loại phim quang học.

Đun Nóng on Infrared Quartz Heat Solutions

Hệ thống sưởi ấm theo từng khu vực trong nhà máy sản xuất wafer hiện đại