<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Віфлеєм on Infrared Quartz Heat Solutions</title>
		<link>http://infra-quartz-heat.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC/</link>
		<description>Recent content in Віфлеєм on Infrared Quartz Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infra-quartz-heat.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Галогенний випромінювач в інфрачервоному діапазоні для сушіння пластин</title>
				<link>http://infra-quartz-heat.com/uk/posts/halogen-ir-emitter-for-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800</pubDate>
				<guid>http://infra-quartz-heat.com/uk/posts/halogen-ir-emitter-for-wafer-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Галогенний випромінювач в інфрачервоному діапазоні для сушіння пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій лінії один лише дефект на поверхні пластини може зруйнувати цілу партію продукції. Традиційні методи сушіння є складними – з одного боку є тепловий стрес, а з іншого – ризик забруднення частинок. У процесі літографії неможливо допустити жодних похибок: навіть зміна температури на 0,5°C під час обробки фоточутливого шару може пошкодити критичні параметри пластини. Ми створили галогенний ІЧ-випромінювач для сушіння пластин, щоб усунути ці похибки.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Усередині кварцового корпусу знаходиться лампа короткохвильового галогенного світіння, яка забезпечує пряме ІЧ-випромінювання з часом реакції менше секунди. Ми підтримуємо однорідність температури в цільовій зоні при значенні ±0,1°C, а система закритого контролю забезпечує однакові параметри сушіння при кожному циклі. Система працює без жодних проблем у чистих приміщеннях класу 1–100, а тепловий профіль залишається стабільним – це дозволяє зберегти тепловий баланс пластини під час сушіння, без наслідків для її структури.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Зоноване опалення для сучасних фабрик з виробництва пластин</title>
				<link>http://infra-quartz-heat.com/uk/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:40:56 +0800</pubDate>
				<guid>http://infra-quartz-heat.com/uk/posts/zoned-heating-for-advanced-wafer-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Зоноване опалення для сучасних фабрик з виробництва пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій лінії достатньо зміни температури на 1°C під час процесу нагрівання фоторезисту, щоб це вплинуло на критичні розміри деталей та призвело до зіпсування великої кількості пластин. У звичайних печах нагрівається сама камера, а не сама пластина. Ми створили систему зонованого нагріву, яка дозволяє направляти тепло саме на пластину, при цьому зберігаючи температурний баланс у всіх зонах.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Наші модулі зонованого інфрачервоного нагріву забезпечують однорідність температури на поверхні пластини в межах ±0,1°C у активній зоні. Повторюваність значень температури залишається в межах ±0,5°C навіть після тисяч циклів. Короткохвильові випромінювачі дозволяють швидко досягти потрібних температур, а конструкція без використання вуглецевих волокон зменшує кількість частинок у необхідних зонах – у середовищах класу 1–100. Система працює 24/7 завдяки механізму компенсації температурних змін, що забезпечує стабільну продуктивність протягом понад 5 000 годин.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
