Сушка on Infrared Quartz Heat Solutions

Нагреватель для сушки пластин с датчиками MEMS

Mon, 20 Jul 2026 11:50:00 +0800

Как избавиться от ужаса, связанного с взрывом ламп в процессе сушки чипов MEMS
Если вы когда-либо работали в условиях высокой нагрузки, вы знаете, как это стрессово. Но ничто не сравнится с шоком, вызванным взрывом инфракрасной лампы во время сушки чипов MEMS.

Проблема заключается не только в прерывании процесса производства. Ещё хуже то, что осколки кварца и нити тунгстена попадают на поверхность чипов. Это настоящая катастрофа. Мы потратили много времени на поиск способов предотвращения таких ситуаций.

Энергетический аудит сушильных установок

Sat, 18 Jul 2026 04:13:14 +0800

Почему мы тестируем каждую лампу отдельно (и почему это важно для вашего производства)
На линиях сушки в промышленных цехах нагрузка на нагревательные элементы очень велика. Они постоянно нагреваются, охлаждаются и подвергаются вибрациям. Большинство людей не задумываются об этом, пока что-то не сломается. Но даже небольшая трещина в изоляции — это не просто «техническая неисправность». Это может привести к остановке производства, порче партии продукции или, в худшем случае, к травмам людей.

Поэтому мы не проводим лишь случайные проверки. Мы подвергаем каждую лампу и нагревательный элемент полной проверке на устойчивость к высокому напряжению ещё до того, как они покинут наш завод.

Галогеновый ИК излучатель для сушки пластин

Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800

На производственной линии один лишний пятнышко может испортить целую партию продукции. Традиционные методы сушки представляют собой сложную задачу: с одной стороны — тепловое напряжение, а с другой — загрязнение частицами. В литографии нельзя допускать никаких отклонений: даже 0,5°C отклонения температуры в процессе обработки фоторезиста может нарушить критические размеры изделия. Мы разработали галогеновый ИК-излучатель для сушки пластин, чтобы исключить такие отклонения.

Что имеет значение с технической точки зрения
Внутри кварцевого корпуса находится галогеновая лампа коротких волн, которая выделяет ИК-излучение с временем реакции менее секунды. Благодаря этому температура в целевой зоне сохраняется в пределах ±0,1°C. Замкнутый контур управления обеспечивает стабильность процесса при каждой плавке. Система работает без какого-либо загрязнения в чистых комнатах класса 1–100; тепловой профиль остается стабильным, что позволяет сохранять тепловой баланс пластины при одновременном удалении влаги без возникновения эффекта «кожицы».