<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Разоблачение on Infrared Quartz Heat Solutions</title>
		<link>http://infra-quartz-heat.com/ru/tags/%D1%80%D0%B0%D0%B7%D0%BE%D0%B1%D0%BB%D0%B0%D1%87%D0%B5%D0%BD%D0%B8%D0%B5/</link>
		<description>Recent content in Разоблачение on Infrared Quartz Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infra-quartz-heat.com/ru/tags/%D1%80%D0%B0%D0%B7%D0%BE%D0%B1%D0%BB%D0%B0%D1%87%D0%B5%D0%BD%D0%B8%D0%B5/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагреватель для послеэкспозиционной обработки (PEB)</title>
				<link>http://infra-quartz-heat.com/ru/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800</pubDate>
				<guid>http://infra-quartz-heat.com/ru/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Нагреватель для послеэкспозиционной обработки (PEB)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На этапе литографии ошибка температуры PEB приводит к отклонениям в размерах элементов печатной платы и к смещению их расположения. Недостаточно даже 1°C неоднородности по поверхности пластины, чтобы профили фотополимера вышли за пределы допустимых значений, что влечет за собой потерю времени на обработку. Мы разработали специальные нагреватели для поддержания оптимальной температуры в процессе производства, чтобы такой профиль сохранялся при обработке каждой партии продукции.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что имеет значение на практике&lt;/strong&gt;&#xA;Мы используем галогеновые элементы с коротковолновым инфракрасным излучением, расположенные за кварцевым стеклом. Это позволяет достичь быстрого нагрева и мгновенной реакции. Равномерность температуры по всей поверхности пластины составляет ±0,1°C, а точность повторяемости процедур — в рамках нескольких миллисекунд. Таким образом, одинаковые условия обработки сохраняются как при обработке первой, так и последней партии продукции. Устройство соответствует требованиям чистых помещений класса 1–100: материалы, используемые в устройстве, имеют низкий уровень выделения газов, а путь движения частиц контролируется. Отсутствие образования частиц во время нагрева — не просто заявленное качество, но и результат постоянного контроля на уровне самого оборудования.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
