Aquecedor de pós exposição (PEB)

Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800

No setor de litografia, um erro de temperatura no PEB leva rapidamente a desvios no tamanho dos círculos de desenvolvimento e à deriva na qualidade da imagem resultante. Uma variação de 1°C na temperatura ao longo do wafer já é suficiente para fazer com que os perfis do fotorresist fiquem fora das especificações, desperdiçando horas de trabalho. Desenvolvemos os aquecedores do PEB para manter esse perfil térmico dentro dos limites aceitáveis, lote após lote.

O que realmente importa Usamos elementos de aquecimento de infravermelho de onda curta por trás de uma janela de quartzo, para um aquecimento rápido e direto, com resposta em subsegundos. A uniformidade da temperatura ao longo do wafer fica entre ±0,1°C, e a repetibilidade é de milissegundos. Assim, o mesmo perfil térmico é mantido tanto no primeiro lote quanto no lote 1000. O módulo é adequado para uso em salas limpas de classe 1–100, com materiais que produzem pouca emissão de gases e um sistema de controle de partículas eficaz. A ausência total de partículas durante o processo de aquecimento não é apenas um benefício teórico – ela é verificada por meio de monitoramento de partículas em tempo real, diretamente na interface da máquina.

Exposição on Infrared Quartz Heat Solutions

Aquecedor de pós exposição (PEB)