Verhitter voor post exposure bake (PEB)

Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800

Op de lithografielijn zorgt een temperatuurafwijking tijdens de PEB-stap voor snelle afwijkingen in de vorm van CD-waarden en drift in de afmetingen van het product. Een niet-uniforme temperatuur van 1°C over het oppervlak van de wafer is al voldoende om de profilering van de fotorezyst te verstoren, waardoor er uren aan werk verloren gaan. We hebben onze PEB-verwarmers zo ontworpen dat de temperatuur binnen de gewenste grenzen blijft, batch na batch.

Wat belangrijk is onder de motorkap
We maken gebruik van kortegolflengte-infraroodhalogeenelementen achter een kwartsraam, zodat er snel en rechtstreeks wordt verhit. De temperatuurovereenstemming over het oppervlak van de wafer blijft op ±0,1°C, en de herhaalbaarheid ligt op milliseconden niveau. Hierdoor blijft de thermische situatie hetzelfde, zowel in batch 1 als in batch 1000. Het apparaat is geschikt voor gebruik in zuiverruimtes van klasse 1–100, met materialen die weinig gassen uitstoten en een pad waarbij de concentratie aan deeltjes goed wordt gecontroleerd. Er worden geen deeltjes gegenereerd tijdens het verhitten – dit wordt gecontroleerd door middel van continu Monitoring van deeltjes direct bij de invoer van het apparaat.

Uitstelling; Blootstelling on Infrared Quartz Heat Solutions

Verhitter voor post exposure bake (PEB)