Halogeen IR emitter voor drogen van wafers

Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800

Op de productielijn kan één enkele fout al ervoor zorgen dat een hele lading producten onbruikbaar wordt. Traditionele droogmethoden brengen risico’s met zich mee: enerzijds thermische belasting, en anderzijds vervuiling door deeltjes. In de lithografie mag er geen enkele fout optreden: een afwijking van 0,5°C tijdens het verwerken van de fotoresist kan leiden tot fouten in de afmetingen van het product. We hebben daarom de Halogen IR-emitter ontwikkeld om deze variabiliteit uit te sluiten.

Wat technisch gezien belangrijk is
Binnenin het kwartsomhulsel zit een kortgolflamp die direct infraroodlicht uitzendt, met een reactietijd van minder dan een seconde. Hierdoor blijft de temperatuur in het gewenste gebied binnen ±0,1°C. Dankzij de gesloten lusregeling blijven de droogprocedures steeds consistent. Het systeem werkt zonder enige vervuiling in schone ruimtes van klasse 1–100. De thermische standaarden worden behouden, terwijl vocht wordt verwijderd zonder dat dit negatieve gevolgen heeft voor de oppervlakte van de chip.

Uitdrogen on Infrared Quartz Heat Solutions

Halogeen IR emitter voor drogen van wafers