Wafer on Infrared Quartz Heat Solutions

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Thu, 23 Jul 2026 12:16:46 +0800

Mengawal suhu dalam fasiliti pembuatan pintar

Membina fasiliti pembuatan pintar bukan sekadar meletakkan pelbagai sensor pada alat-alat yang digunakan, lalu berharap hasilnya akan memuaskan. Sebenarnya, ia melibatkan perubahan cara kita memandang konsep suhu itu sendiri.

Dalam proses pemprosesan wafer, kita menggunakan sistem inframerah tanpa sentuhan. Kelebihan sistem ini ialah ia tidak menyentuh permukaan wafer. Tanpa sentuhan, risiko kontaminasi dapat dielakkan. Selain itu, kita juga tidak perlu risau tentang sensor yang berfungsi sebagai penyerap haba dan mengganggu bacaan suhu yang dihasilkan. Sensor tersebut hanya berfungsi untuk memantau dari jarak jauh.

Reflektor untuk lampu pengeringan wafer

Tue, 21 Jul 2026 09:33:14 +0800

Menghentikan proses pengumpulan debu: Cara kita mengawal proses pengeringan wafer
Ketika bekerja di bilik bersih kelas 100, tidak boleh ada sedikit pun debu. Sebuah zarah debu kecil atau gas yang terhasil daripada elemen pemanas yang murah pun boleh merosakkan keseluruhan wafer silikon yang digunakan. Ini merupakan situasi yang sangat buruk.

Itulah sebabnya kami tidak menggunakan bahan biasa untuk membuat lampu pengeringan ini. Kami menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk membuat lampu dan reflektor tersebut.

Rahsianya terletak pada silika.
Kebanyakan lampu menggunakan kuarsa biasa, tetapi kami menghilangkan segala kekotoran agar ion logam tidak dapat masuk ke dalam sistem tersebut. Jika anda pernah melihat lampu mengeluarkan asap semasa digunakan dalam suhu tinggi, anda pasti faham apa yang perlu dielakkan. Kami memastikan tiada gas halogen yang bocor ke dalam ruang kerja anda, supaya segalanya tetap bersih.

Pemanas wafer yang cekap dari segi tenaga

Mon, 20 Jul 2026 12:04:52 +0800

Hentikan pembaziran tenaga

Mari kita jujur: proses pemanasan wafer sebenarnya agak menyusahkan. Jika anda menggunakan lampu kuarsa biasa, anda sebenarnya membayar untuk tenaga yang tidak digunakan sama sekali oleh produk tersebut. Lampu-lampu ini memancarkan haba ke semua arah. Separuh daripada tenaga tersebut hilang begitu saja ke dalam badan mesin. Ini merupakan pembaziran tenaga.

Kami telah mencari cara yang lebih baik. Kami menggunakan reflektor yang dilapisi emas untuk menangkap tenaga yang tersisa dan mengarahkannya kembali ke wafer tersebut.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Mon, 20 Jul 2026 11:50:00 +0800

Menghentikan masalah lampu yang meletup semasa proses pengeringan MEMS
Jika anda pernah bekerja dalam persekitaran pengeluaran yang memerlukan beban kerja yang tinggi, anda pasti tahu betapa beratnya tekanan yang perlu dihadapi. Namun, tiada apa yang lebih teruk daripada situasi di mana lampu IR meletup semasa proses pengeringan wafer MEMS.

Ia bukan sekadar masalah paip pengairan yang terhenti; akibatnya sangat buruk. Serpihan kuarza dan filamen tungsten akan jatuh ke atas wafer tersebut. Ini merupakan bencana sebenar. Kami telah meluangkan banyak masa untuk mencari cara agar perkara ini tidak berlaku.

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Tue, 14 Jul 2026 10:32:48 +0800

Mengapa kita beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah untuk semikonduktor tanpa plumbum
Industri ini berusaha keras untuk mencapai standard “hijau” dan bebas daripada penggunaan plumbum. Ini memang kedengaran bagus secara teori, tetapi ia menyukarkan proses pembuatan sebenar.

Untuk waktu yang lama, kita bergantung pada ketuhar konveksi. Masalahnya ialah kaedah ini memerlukan tenaga yang banyak untuk memanaskan udara di dalam ketuhar tersebut. Ia merupakan pembaziran tenaga, dan sebenarnya ia juga merupakan cara yang tidak efektif. Udara panas yang terhasil boleh menyebabkan zarah-zarah kecil terperangkap pada permukaan wafer.

Penderia IR yang tepat untuk kegunaan pada wafer.

Mon, 13 Jul 2026 17:54:23 +0800

Hentikan Penggunaan Pemanas Udara: Cara Lebih Efisien untuk Memproses Wafer

Jika kita benar-benar ingin mencapai sasaran neutraliti karbon di fasiliti pengeluaran ini, kita perlu berhenti bergantung pada oven konvensional yang memakan banyak tenaga. Sebaliknya, kita harus beralih kepada kaedah pemanasan menggunakan gelombang inframerah yang lebih tepat.

Idea yang digunakan sangat mudah: mengapa perlu memanaskan seluruh ruang vakum atau udara di sekeliling wafer, sedangkan yang diperlukan hanyalah pemanasan pada permukaan wafer itu sendiri? Kita gunakan sensor dan lampu inframerah untuk mengarahkan haba ke tempat yang sepatutnya. Dengan cara ini, tidak ada lagi pembaziran tenaga pada kawasan yang tidak diperlukan.

Pemancar cahaya inframerah jenis halogen untuk proses pengeringan wafer.

Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800

Di bilik pemprosesan wafer, walaupun terdapat sedikit kesilapan semasa proses pengeringan, ia boleh merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Kaedah pengeringan konvensional mempunyai kelemahan tersendiri – tekanan haba di satu sisi, manakala pencemaran zarah pula berlaku di sisi yang lain. Dalam proses litografi, kita tidak boleh mengambil risiko sedikit pun; perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemprosesan fotoresist boleh merosakkan dimensi penting wafer tersebut. Oleh itu, kami mencipta penjana inframerah halogen untuk tujuan pengeringan wafer, agar variasi suhu dapat dikurangkan.

Sistem pemanasan berzon untuk fasiliti pengeluaran wafer berteknologi tinggi

Thu, 02 Jul 2026 09:40:56 +0800

Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan photoresist sudah cukup untuk merosakkan dimensi penting wafer tersebut, sehingga menyebabkan banyak wafer menjadi tidak boleh digunakan. Ketuhar konvensional akan memanaskan seluruh ruang, bukannya wafer itu sendiri. Kami menggunakan sistem pemanasan berzone agar haba dapat disalurkan tepat ke permukaan wafer, sambil tetap memastikan suhu tidak melebihi had yang ditetapkan.

Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Modul inframerah berteknologi zon ini memastikan suhu di permukaan wafer kekal stabil dalam lingkungan ±0.1°C di kawasan yang aktif. Ketepatan suhu juga kekal dalam lingkungan ±0.5°C walaupun selepas ribuan kitaran pemprosesan. Emitter gelombang pendek membantu mencapai suhu yang diperlukan dengan cepat, manakala reka bentuk tanpa serat karbon pula membantu mengurangkan jumlah zarah di kawasan yang diperlukan—dalam persekitaran kelas 1–100. Sistem ini beroperasi 24/7 dengan adanya mekanisme kompensasi perubahan suhu, sehingga prestasinya kekal stabil walaupun selepas 5,000 jam penggunaan.

Pemanas untuk probe wafer semikonduktor

Fri, 26 Jun 2026 05:39:51 +0800

Di atas lantai pengeluaran yang canggih ini, kad penjujuk berada di bawah alat pemeriksaan, menunggu giliran untuk digunakan. Jika suhu wafer berubah walaupun sedikit sekalipun, parameter yang digunakan akan terjejas, dan kualiti hasil pengeluaran akan merosot. Kami mencipta pemanas khas untuk wafer ini agar perubahan suhu dapat dikawal pada titik di mana penjujuk bersentuhan dengan wafer tersebut.

Apa yang benar-benar penting semasa ujian
Alat ini menggunakan unsur inframerah gelombang pendek untuk menghasilkan haba, dan ia direka untuk memberikan tindak balas yang cepat serta meminimumkan inersia termal. Kekonsistenan suhu wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C, dan ketepatan pengulangan proses pengeluaran juga tetap tinggi kerana sistem kawalan berada di lokasi yang betul, iaitu pada permukaan wafer itu sendiri. Reka bentuknya sesuai untuk digunakan dalam stesen penjujuk biasa, dan kawasan panasnya dipisahkan supaya pergerakan mekanikal tidak menyebabkan habuk terbentuk. Alat ini boleh digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, kerana bahan-bahannya disegel rapi dan aliran udara dikawal agar tidak masuk ke dalam persekitaran ujian.