<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Hidrogen on Infrared Quartz Heat Solutions</title>
		<link>http://infra-quartz-heat.com/ms/tags/hidrogen/</link>
		<description>Recent content in Hidrogen on Infrared Quartz Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 07:44:24 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infra-quartz-heat.com/ms/tags/hidrogen/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk pembuatan sensor hidrogen</title>
				<link>http://infra-quartz-heat.com/ms/posts/hydrogen-sensor-fabrication-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 07:44:24 +0800</pubDate>
				<guid>http://infra-quartz-heat.com/ms/posts/hydrogen-sensor-fabrication-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk pembuatan sensor hidrogen&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran, pemanas yang digunakan untuk sensor hidrogen tidak boleh bertoleransi terhadap perubahan suhu yang ketara. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran akan menyebabkan variasi dimensi yang besar, dan pembentukan zarah-zarah semasa proses pembakaran pula akan mengurangkan kadar pengeluaran produk. Apa yang diperlukan di sini ialah kebolehpengulangan proses tersebut, bukannya sekadar toleransi tertentu.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Apa yang penting di sini ialah penggunaan elemen inframerah berfrekuensi rendah dalam reka bentuk pemanas tersebut, agar suhu pada permukaan wafer dapat dikawal pada tahap ±0.1°C. Perubahan suhu yang berlaku boleh dikawal dengan baik, sekaligus memastikan suhu tetap berada dalam julat yang sesuai untuk proses pengeluaran.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
