http://infra-quartz-heat.com/ms/tags/bakar/ Recent content in Bakar on Infrared Quartz Heat Solutions Hugo ms Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800 http://infra-quartz-heat.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/ Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800 http://infra-quartz-heat.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/ <p><img src="http://infra-quartz-heat.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Pemanas untuk proses Post Exposure Bake (PEB)"></p> <p>Di ruang litografi, ralat suhu PEB boleh menyebabkan perubahan ketara pada ukuran CD dan kesilapan dalam proses penghasilan cip. Perbezaan suhu sebanyak 1°C pada permukaan wafer sudah cukup untuk mengganggu profil fotoreseptor, sehingga membuang masa berjam-jam yang telah digunakan untuk proses pengeluaran. Kami telah mencipta pemanas PEB yang mampu mengekalkan profil suhu dalam julat yang ditetapkan, dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam proses ini</strong><br> Kami <a href="https://henruite.com">menggunakan</a> unsur halogen jenis gelombang inframerah pendek (SWIR) di belakang <a href="https://goldisgood.com">tingkap</a> kuarsa untuk memastikan pemanasan yang cepat dan tepat. Kestabilan suhu pada permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan pemantauan suhu berlaku dalam masa milisaat sahaja. Ini memastikan bahawa profil suhu yang sama dapat dicapai untuk setiap kumpulan wafer, sama ada yang pertama atau yang ke-1000. Modul ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang kurang mengeluarkan gas dan laluan yang dikawal dengan baik. Tidak ada penghasilan zarah semasa proses pemanasan, kerana ia dipantau secara langsung pada antaramuka alat tersebut.</p>