http://infra-quartz-heat.com/ko/tags/%ED%94%84%EB%A1%9C%EC%84%B8%EC%8A%A4/ Recent content in 프로세스 on Infrared Quartz Heat Solutions Hugo ko Wed, 03 Jun 2026 10:18:34 +0800 http://infra-quartz-heat.com/ko/posts/ashing-process-heating-infrared/ Wed, 03 Jun 2026 10:18:34 +0800 http://infra-quartz-heat.com/ko/posts/ashing-process-heating-infrared/ <p><img src="http://infra-quartz-heat.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="재화 과정 가열 적외선"></p> <h1 id="fab-플로어에서의-애싱은-선택이-아닌-필수-공정입니다-포토레지스트를-필름-아래에-영향을-주지-않고-완전히-제거하는-열처리-단계입니다-온도가-변동하거나-프로파일이-떨어지면-잔류물이-발생합니다-이는-라인-수율-저하로-이어지고-리소그래피-적층-공정에-영향을-미칩니다">Fab 플로어에서의 애싱은 선택이 아닌 필수 공정입니다. 포토레지스트를 필름 아래에 영향을 주지 않고 완전히 제거하는 열처리 단계입니다. 온도가 변동하거나 프로파일이 떨어지면 잔류물이 발생합니다. 이는 라인 수율 저하로 이어지고, 리소그래피 적층 공정에 영향을 미칩니다.</h1> <p><strong>핵심 요소</strong><br> 단파 적외선을 기반으로 애싱 히터를 설계했으며, 빠르고 반복 가능한 반응 속도를 가진 쿼츠-할로겐 방출기 배열을 사용했습니다. 베이크 존 내에서 웨이퍼 수준의 균일도가 ±0.1℃ 이내이며, 스트립 사이클 전체에 걸쳐 설정 온도를 유지하는 온도 제어가 가능합니다. 시스템은 Class 1–100 클린룸 환경에서 무입자 발생 상태로 작동하며, 인-시투 모니터링을 통해 검증되었습니다. 5,000시간 이상 안정적인 출력이 가능하며, 출력 강도 변동은 5% 미만입니다.</p>