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		<title>プロセス on Infrared Quartz Heat Solutions</title>
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				<title>アッシングプロセス加熱赤外線</title>
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				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 10:18:34 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;アッシングプロセス加熱赤外線&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;ファブフロアにおけるアッシングは選択肢ではなくフォトレジストを下層膜に影響を与えずに確実に除去するための熱処理ステップである温度がずれたりプロファイルが崩れたりすると残渣が発生するこれによりライン歩留まりが低下しリソグラフィスタック全体に影響が及ぶ&#34;&gt;ファブフロアにおけるアッシングは選択肢ではなく、フォトレジストを下層膜に影響を与えずに確実に除去するための熱処理ステップである。温度がずれたりプロファイルが崩れたりすると、残渣が発生する。これによりライン歩留まりが低下し、リソグラフィスタック全体に影響が及ぶ。&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;重要なポイント&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;短波赤外線を用い、クォーツハロゲンエミッターアレイによる応答性の高く再現性のある加熱源を軸にアッシングヒーターを設計した。ベイクゾーン全体でウェーハレベルの均一性を±0.1℃以内に保ち、剥離サイクル全体を通して設定温度を維持する温度制御を実現している。システムはClass 1–100クリーンルーム内での稼働を想定し、インサイチュモニタリングによりパーティクル発生ゼロを検証している。出力は5,000時間以上安定し、強度のドリフトは5%未満に抑えられている。&lt;/p&gt;</description>
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