<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>ハロゲン on Infrared Quartz Heat Solutions</title>
		<link>http://infra-quartz-heat.com/ja/tags/%E3%83%8F%E3%83%AD%E3%82%B2%E3%83%B3/</link>
		<description>Recent content in ハロゲン on Infrared Quartz Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infra-quartz-heat.com/ja/tags/%E3%83%8F%E3%83%AD%E3%82%B2%E3%83%B3/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ウェーハ乾燥用ハロゲンIRエミッタ</title>
				<link>http://infra-quartz-heat.com/ja/posts/halogen-ir-emitter-for-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800</pubDate>
				<guid>http://infra-quartz-heat.com/ja/posts/halogen-ir-emitter-for-wafer-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;ウェーハ乾燥用ハロゲンIRエミッタ&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;製造現場&lt;/a&gt;では、わずかな水分でも全体の生産ロットを台無しにしてしまうことがあります。従来の乾燥方法では、一方で熱応力がかかり、もう一方で粒子汚染の問題があります。また、リソグラフィーにおいては、わずか0.5℃の温度変動だけでも、重要な寸法精度を損なってしまいます。そうした問題を解決するために、ウェハー乾燥用のハロゲンIRエミッターが開発されました。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;技術的に重要な点&lt;/strong&gt;&#xA;クォーツ製のケースの中には短波長のハロゲンランプがあり、数秒以内に直接IR光を放出します。これにより、対象領域内の温度を±0.1℃以内に保つことができ、ループ制御によって毎回同じ乾燥条件を実現できます。このシステムは、クラス1～100の清浄室環境下でも粒子の発生を抑え、ウェハーの熱バランスを保ちながら水分を除去します。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
