IR on Infrared Quartz Heat Solutions

Riflettore in alluminio per lampada a IR

Fri, 17 Jul 2026 08:00:08 +0800

Mantenere tutto al sicuro quando le lampade a radiazioni infrarosse entrano in contatto con sostanze chimiche volatili
Siamo onesti: installare lampade a radiazioni infrarosse in linee di pulizia chimica è piuttosto rischioso. Quando si lavora con solventi che possono facilmente prendere fuoco o esplodere, anche una piccola scintilla o un componente non protetto rappresenta un pericolo reale.
Ecco perché non ci limitiamo semplicemente ad “installare” le lampade. Le avvolgiamo in riflettori in alluminio speciali e le sigilliamo ermeticamente.
Il trucco dei riflettori
Immaginate una lampada a radiazioni infrarosse senza riflettori: emette calore in tutte le direzioni, ovvero 360 gradi. In una stanza di pulizia, metà di questo calore viene sprecato, riscaldando soltanto il corpo della lampada e tutto ciò che la circonda.
Noi utilizziamo alluminio ad alta purezza per riflettere quel calore esattamente sulla superficie da riscaldare. In questo modo, il calore agisce dove è necessario, mentre il corpo esterno della lampada rimane fresco. È una soluzione semplice, ma efficace per evitare che il corpo della lampada diventi un fattore scatenante per i vapori presenti nell’ambiente.
Sigillare tutto ermeticamente
Gli agenti chimici corrosivi sono molto aggressivi: distruggono qualsiasi cosa con cui vengono a contatto. Per evitare che distruggano la lampada, sigilliamo l’intero sistema. Non si tratta semplicemente di una copertura in plastica: utilizziamo giunzioni e rivestimenti resistenti per mantenere i vapori chimici lontani dalle connessioni elettriche. Se i solventi utilizzati sono particolarmente aggressivi, modifichiamo i materiali utilizzati per evitare problemi legati all’ossidazione.
I compromessi (perché ce ne sono sempre)
L’aggiunta di riflettori e sigilli aumenta naturalmente il peso della lampada. Per questo motivo, la lampada non raggiunge subito la temperatura desiderata, come invece accadrebbe con una lampada tradizionale. Noterete quindi un leggero ritardo quando accendete la lampada. Inoltre, è necessario mantenere una buona ventilazione: se i vapori chimici si accumulano sulle superfici esterne dei riflettori, l’efficienza della lampada diminuisce. Mantenendo le superfici pulite, la lampada rimane efficiente.
Se la fonte di alimentazione è in grado di fornire l’energia necessaria, queste lampade possono essere integrate facilmente nei sistemi IR esistenti. Niente complicazioni, solo maggiore sicurezza.

Estremità in ceramica per emettitore IR

Wed, 15 Jul 2026 10:05:35 +0800

Come mantenere pulita una sala pulita di Classe 100
Se avete mai provato a utilizzare lampade a infrarossi standard in una sala pulita di Classe 100, conoscete bene i problemi che ne derivano. La maggior parte delle lampade è tenuta insieme da adesivi o metalli di scarsa qualità, i quali non riescono a resistere al calore. Non appena le lampade si riscaldano, iniziano a rilasciare gas o frammenti di materiale che possono danneggiare i componenti ottici presenti nella sala pulita.

Sensore IR ad alta precisione per wafer

Mon, 13 Jul 2026 17:54:23 +0800

Smettiamo di riscaldare l’aria: un modo più intelligente per trattare le wafer
Se vogliamo davvero raggiungere gli obiettivi legati alla neutralità carbonica nei nostri impianti di produzione, dobbiamo smettere di affidarci a quei forni resistentivi tradizionali. Essi consumano tantissima energia. Invece, stiamo passando all’uso di sistemi di riscaldamento a infrarossi ad alta precisione.

L’idea è semplice: perché riscaldare tutta la camera a vuoto o l’aria intorno alla wafer, quando basta riscaldare soltanto la wafer stessa? Utilizziamo sensori e lampade a infrarossi per concentrare il calore esattamente dove è necessario. Così non si spreca energia su spazi inutili.

Ampio assortimento di lampade a infrarossi di alta qualità

Sun, 05 Jul 2026 13:32:37 +0800

Introduzione
Produciamo lampade a riscaldamento a infrarossi di alta qualità: lampade progettate appositamente per essere utilizzate nei processi legati alla produzione di semiconduttori, dove la pressione è costante e ogni dettaglio è fondamentale. Non si tratta di semplici lampade per riscaldamento: sono progettate per funzionare giorno dopo giorno nelle fabbriche, dove il loro funzionamento continuo non è soltanto vantaggioso, ma addirittura essenziale per garantire profitti stabili.

Potenza, tensione e dimensioni: cosa conta davvero
Nel processo di confezionamento, spesso è necessario generare molta calore in uno spazio ridotto: pensate ad esempio ai processi di fissazione dei componenti sui circuiti, alla fusione dei materiali o alla saldatura termica. Le nostre lampade a infrarossi permettono di ottenere questa potenza senza superare i limiti imposti dal sistema. Adattiamo tensione e potenza in base alla lunghezza del tubo e alle esigenze termiche dell’equipaggiamento, in modo che la lampada possa funzionare al meglio nel contesto specifico. Non il contrario.
Prendiamo ad esempio un tubo da 300 mm: di solito funziona a una tensione più elevata per mantenere una densità di potenza uniforme in tutta l’area di riscaldamento. Questo garantisce una distribuzione uniforme della temperatura e riduce la formazione di punti caldi che possono danneggiare i componenti.
Tuttavia, c’è un compromesso: una maggiore densità di potenza richiede un sistema di raffreddamento efficace. La lampada continuerà comunque a funzionare anche se il sistema di raffreddamento non è adeguato, ma i componenti circostanti potrebbero surriscaldarsi.

Emettitore IR a halogene per l essiccazione dei wafer

Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800

Nella sala di produzione, anche una singola imperfezione può rovinare l’intera serie di wafer prodotti. I metodi tradizionali di essiccazione presentano dei rischi: da un lato c’è lo stress termico, dall’altro la contaminazione causata dalle particelle presenti nell’ambiente. Nella litografia, invece, non si può permettere alcun errore: anche un errore di 0,5°C durante il trattamento del fotorestante può compromettere le dimensioni critiche del wafer. Per questo abbiamo sviluppato un emettitore a raggi infrarossi a base di halogeno, per eliminare questa variabilità nel processo di essiccazione.