Asciugatura on Infrared Quartz Heat Solutions

Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS

Mon, 20 Jul 2026 11:50:00 +0800

Fermare l’incubo delle lampade che esplodono durante il processo di essiccazione dei wafer MEMS
Se avete mai lavorato in un ambiente di produzione ad alta intensità, conoscete bene lo stress legato a queste situazioni. Ma niente è peggio dell’esplosione di una lampada a infrarossi durante il processo di essiccazione dei wafer MEMS.
Non si tratta solo dell’interruzione del processo di produzione: ci sono anche i problemi conseguenti. I frammenti di quarzo e i filamenti di tungsteno finiscono per danneggiare i wafer. È davvero un disastro totale. Abbiamo dedicato molto tempo per trovare soluzioni che permettano di evitare che ciò accada.

Audit energetico per la essiccazione in fabbrica

Sat, 18 Jul 2026 04:13:14 +0800

Perché testiamo ogni singola lampada (e perché è importante per il vostro pavimento)
In una linea di essiccazione industriale, gli elementi riscaldanti vengono sottoposti a continue sollecitazioni: vengono riscaldati e raffreddati costantemente, e inoltre vengono sottoposti a vibrazioni. La maggior parte delle persone non ci pensa finché non succede qualcosa di sbagliato. Tuttavia, anche la più piccola crepa nell’isolamento non è semplicemente un “problema tecnico”: può causare l’interruzione della produzione, la rovina di un lotto di prodotti, o, nel peggiore dei casi, possono esserci feriti.
Ecco perché non effettuiamo solo controlli occasionali. Prima che le lampade e i tubi riscaldanti lascino il nostro stabilimento, vengono sottoposti a test completi di resistenza elettrica e di isolamento.

Emettitore IR a halogene per l essiccazione dei wafer

Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800

Nella sala di produzione, anche una singola imperfezione può rovinare l’intera serie di wafer prodotti. I metodi tradizionali di essiccazione presentano dei rischi: da un lato c’è lo stress termico, dall’altro la contaminazione causata dalle particelle presenti nell’ambiente. Nella litografia, invece, non si può permettere alcun errore: anche un errore di 0,5°C durante il trattamento del fotorestante può compromettere le dimensioni critiche del wafer. Per questo abbiamo sviluppato un emettitore a raggi infrarossi a base di halogeno, per eliminare questa variabilità nel processo di essiccazione.