Emettitore IR a halogene per l essiccazione dei wafer

Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800

Nella sala di produzione, anche una singola imperfezione può rovinare l’intera serie di wafer prodotti. I metodi tradizionali di essiccazione presentano dei rischi: da un lato c’è lo stress termico, dall’altro la contaminazione causata dalle particelle presenti nell’ambiente. Nella litografia, invece, non si può permettere alcun errore: anche un errore di 0,5°C durante il trattamento del fotorestante può compromettere le dimensioni critiche del wafer. Per questo abbiamo sviluppato un emettitore a raggi infrarossi a base di halogeno, per eliminare questa variabilità nel processo di essiccazione.

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Emettitore IR a halogene per l essiccazione dei wafer