http://infra-quartz-heat.com/id/tags/paparan-eksposur/ Recent content in Paparan; Eksposur on Infrared Quartz Heat Solutions Hugo id Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800 http://infra-quartz-heat.com/id/posts/post-exposure-bake-peb-heater/ Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800 http://infra-quartz-heat.com/id/posts/post-exposure-bake-peb-heater/ <p><img src="http://infra-quartz-heat.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Pemanas untuk proses Post Exposure Bake (PEB)"></p> <p>Di area litografi, kesalahan suhu PEB merupakan penyebab utama terjadinya penyimpangan ukuran CD dan pergeseran pola permukaan wafer. Perbedaan suhu sebesar 1°C di seluruh permukaan wafer saja sudah cukup untuk membuat profil fotoresist tidak sesuai standar, sehingga membuang-buang waktu kerja yang telah dihabiskan untuk proses produksi. Kami merancang pemanas PEB sedemikian rupa agar suhu tetap berada dalam kisaran yang ditentukan, dari batch ke batch.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam proses ini?</strong> Kami menggunakan elemen pemanas inframerah gelombang pendek (SWIR) di balik kaca kuarsa, sehingga panas dapat disalurkan secara cepat dan langsung ke wafer. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada pada kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitasnya sangat tinggi, yaitu dalam hitungan milidetik. Dengan demikian, kondisi termal yang sama akan diperoleh baik untuk batch pertama maupun batch ke-1000. Modul ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, karena <a href="https://goldisgood.com">memiliki</a> bahan-bahan yang menghasilkan emisi gas yang rendah serta jalur aliran partikel yang terkontrol. Tidak ada pembentukan partikel sama sekali selama proses pemanasan, hal ini dapat dipastikan melalui pemantauan partikel secara langsung di titik interaksi antara alat dan wafer.</p>