Séchage on Infrared Quartz Heat Solutions

Chauffage de séchage de la souche de capteur MEMS

Mon, 20 Jul 2026 11:50:00 +0800

Arrêter l’horreur causée par l’explosion des lampes dans les systèmes de séchage MEMS
Si vous avez déjà travaillé dans un environnement de production à forte charge, vous connaissez bien ce stress. Mais rien ne vaut le choc que provoque l’explosion d’une lampe infrarouge pendant le séchage des wafer MEMS. Ce n’est pas seulement le fait que la ligne de production s’arrête ; il y a aussi tous ces morceaux de quartz et de filaments en tungstène qui tombent sur les wafer. C’est vraiment une catastrophe. Nous avons passé beaucoup de temps à trouver des solutions pour éviter que cela ne se produise jamais.

Audit énergétique pour le séchage de l usine

Sat, 18 Jul 2026 04:13:14 +0800

Pourquoi nous testons chaque lampe individuellement (et pourquoi c’est important pour votre sol)
Dans une ligne de séchage industriel, les éléments chauffants sont soumis à de fortes contraintes. Ils doivent constamment se chauffer, se refroidir et être secoués. La plupart des gens ne pensent pas à cela tant que rien ne va de travers. Mais une petite fissure dans l’isolation n’est pas simplement un problème technique. Cela peut entraîner l’arrêt de la ligne de production, la destruction d’une série de produits, ou – pire encore – des blessures chez les employés.
C’est pourquoi nous ne nous contentons pas de tests ponctuels. Nous soumettons chaque lampe et chaque tube chauffant à des tests complets de résistance à haute tension avant même qu’ils quittent notre usine.

Émetteur IR halogène pour le séchage de wafers

Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800

Dans l’usine de fabrication, une seule impureté peut ruiner toute une série de wafers. Les méthodes traditionnelles de séchage présentent de gros défis : d’une part, il y a le stress thermique ; d’autre part, il y a le risque de contamination par des particules. En lithographie, il est impossible de se permettre des erreurs : une déviation de 0,5 °C pendant le traitement du photorésistant peut compromettre les dimensions critiques du wafer. Nous avons donc conçu un émetteur infrarouge halogène pour le séchage des wafers, afin d’éliminer cette variabilité.