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		<title>Émetteur on Infrared Quartz Heat Solutions</title>
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		<description>Recent content in Émetteur on Infrared Quartz Heat Solutions</description>
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				<title>Bouchon en céramique pour émetteur IR</title>
				<link>http://infra-quartz-heat.com/fr/posts/ceramic-end-cap-for-ir-emitter/</link>
				<pubDate>Wed, 15 Jul 2026 10:05:35 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Bouchon en céramique pour émetteur IR&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Comment maintenir une salle propre de classe 100 vraiment propre&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Si vous avez déjà essayé d’utiliser des lampes infrarouges ordinaires dans une salle propre de classe 100, vous savez bien les &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;probl&lt;/a&gt;èmes que cela entraîne. La plupart de ces lampes sont assemblées à l’aide de colle ou de métaux bon marché, qui ne résistent pas à la chaleur. Dès que ces lampes se réchauffent, elles commencent à émettre des gaz ou à se détacher en petits morceaux de poussière.&lt;br&gt;&#xA;Dans un environnement où un seul grain de poussière peut gâcher toute une série de wafer, c’est un véritable cauchemar.&lt;br&gt;&#xA;Nous avons résolu ce problème en abandonnant ces matériaux inutiles. Nous utilisons maintenant du quartz synthétique de haute pureté, ainsi que des capots en céramique spécialisés.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Émetteur IR halogène pour le séchage de wafers</title>
				<link>http://infra-quartz-heat.com/fr/posts/halogen-ir-emitter-for-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Émetteur IR halogène pour le séchage de wafers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dans l’usine de fabrication, une seule impureté peut ruiner toute une série de wafers. Les méthodes traditionnelles de séchage présentent de gros défis : d’une part, il y a le stress thermique ; d’autre part, il y a le risque de contamination par des particules. En lithographie, il est impossible de se permettre des erreurs : une déviation de 0,5 °C pendant le traitement du photorésistant peut compromettre les dimensions critiques du wafer. Nous avons donc conçu un émetteur infrarouge halogène pour le séchage des wafers, afin d’éliminer cette &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;variabilit&lt;/a&gt;é.&lt;/p&gt;</description>
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