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		<title>Exposición on Infrared Quartz Heat Solutions</title>
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		<description>Recent content in Exposición on Infrared Quartz Heat Solutions</description>
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				<title>Calentador de posterior curado por exposición (PEB)</title>
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				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Calentador de posterior curado por exposición (PEB)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la etapa de litografía, el error en la temperatura del PEB es un factor que puede causar desviaciones en el espaciado entre líneas y desviaciones en la posición de las mismas. Una diferencia de temperatura de 1°C en toda la superficie del wafer es suficiente para hacer que los perfiles del fotolito se salgan de los parámetros establecidos, lo que acaba con horas de trabajo perdidas. Hemos diseñado nuestros &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;calentadores&lt;/a&gt; PEB para mantener ese perfil térmico dentro de los límites aceptables, lotes tras lotes.&lt;/p&gt;</description>
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