Aschenprozess Heizen Infrarot

Wed, 03 Jun 2026 10:18:34 +0800

Auf der Fertigungsebene ist das Aschen keine Option – es ist der thermische Schritt, der den Photoresist sauber entfernt, ohne die darunterliegenden Schichten zu beschädigen. Weicht die Temperatur ab oder fällt das Profil ab, entstehen Rückstände. Die Ausbeute pro Wafer leidet, und die Lithografieschichten zahlen den Preis.

Wesentliche technische Aspekte

Wir haben den Aschen-Heizer auf Kurzwelligen Infrarotstrahlern aufgebaut, mit einem Quarz-Halogen-Emitter-Array, das schnell und reproduzierbar reagiert. Dadurch wird eine Wafer-gleichmäßigkeit von ±0,1°C über die gesamte Backzone erreicht und die Temperaturregelung hält den Sollwert während des gesamten Strip-Zyklus konstant. Das System ist für den Betrieb in Reinraumklassen 1 bis 100 ausgelegt und erzeugt keine Partikel, was durch In-situ-Messungen verifiziert wird. Die Ausgangsleistung bleibt über 5.000+ Stunden stabil mit einer Intensitätsdrift von unter 5 %.

Prozess on Infrared Quartz Heat Solutions

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