Zonales Heizen für fortschrittliche Waferfabriken

Thu, 02 Jul 2026 09:40:56 +0800

In der Fertigungsstätte reicht bereits eine Temperaturschwankung von 1 °C während des Weichbrennvorgangs aus, um die kritischen Abmessungen der Wafer zu beeinträchtigen – und dadurch viele Wafer unbrauchbar zu machen. Herkömmliche Öfen heizen den Raum, nicht direkt die Wafer selbst. Wir haben ein zonales Heizsystem entwickelt, das die Wärme genau dort abgibt, wo sie benötigt wird – also direkt auf den Wafer – und dabei innerhalb der zulässigen thermischen Grenzen bleibt.

Was technisch wichtig ist:
Unsere zonalen Infrarotmodule sorgen dafür, dass die Temperatur im aktiven Bereich bei ±0,1 °C konstant bleibt. Die Wiederholgenauigkeit der Einstellwerte liegt bei ±0,5 °C – auch nach Tausenden von Zyklen. Kurzwellenergiequellen ermöglichen es, die nötigen Temperaturen schnell zu erreichen. Das designs ohne Kohlefasern senkt außerdem die Anzahl der Partikel – ideal für Umgebungen der Klassen 1–100. Das System arbeitet 24/7 und kompensiert automatisch Temperaturschwankungen. So bleibt die Leistung über 5.000 Stunden hinweg stabil.

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Zonales Heizen für fortschrittliche Waferfabriken