<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Emittent on Infrared Quartz Heat Solutions</title>
		<link>http://infra-quartz-heat.com/de/tags/emittent/</link>
		<description>Recent content in Emittent on Infrared Quartz Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>de</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infra-quartz-heat.com/de/tags/emittent/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Halogen IR Emitter für die Trocknung von Wafern</title>
				<link>http://infra-quartz-heat.com/de/posts/halogen-ir-emitter-for-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 15:32:00 +0800</pubDate>
				<guid>http://infra-quartz-heat.com/de/posts/halogen-ir-emitter-for-wafer-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Halogen IR Emitter für die Trocknung von Wafern&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Fertigungshalle kann bereits ein einziger Wasserzeichenfehler dazu führen, dass eine ganze Charge von Wafern unbrauchbar wird. Die traditionellen Trocknungsverfahren sind äußerst schwierig zu kontrollieren – auf der einen Seite entsteht thermischer Stress, auf der anderen Seite droht Kontamination durch Partikel. In der Lithografie darf man keine Fehler tolerieren: Eine Abweichung von 0,5°C während des Fotoleitwerk-Behandlungsprozesses kann dazu führen, dass die kritischen Abmessungen nicht mehr eingehalten werden. Deshalb haben wir den Halogen-IR-Strahler &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;entwickelt&lt;/a&gt;, um diese Unsicherheiten auszugleichen.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
