<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bake on Infrared Quartz Heat Solutions</title>
		<link>http://infra-quartz-heat.com/bn/tags/bake/</link>
		<description>Recent content in Bake on Infrared Quartz Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>bn</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infra-quartz-heat.com/bn/tags/bake/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>পোস্ট এক্সপোজার বেক (PEB) হিটার</title>
				<link>http://infra-quartz-heat.com/bn/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 05:15:02 +0800</pubDate>
				<guid>http://infra-quartz-heat.com/bn/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infra-quartz-heat.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;পোস্ট এক্সপোজার বেক (PEB) হিটার&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;লিথোগ্রাফি প্রক্রিয়ায়, PEB-এর তাপমাত্রা সংক্রান্ত ত্রুটিগুলো সিডি-এর মানে পরিবর্তন এবং ওভারলে ড্রিফটের কারণ হয়। ওয়েফারের উপরিভাগে ১°C এর মতো তাপমাত্রা পার্থক্যই ফটোরেজিস্টের গুণমানকে নিয়ন্ত্রণের বাইরে নিয়ে যায়; ফলে ঘণ্টার পর ঘণ্টা ধরে কাজ নষ্ট হয়ে যায়। আমরা প্রক্রিয়াটিকে নিয়ন্ত্রণে রাখার জন্য PEB হিটারগুলো ব্যবহার করি।&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;কী গুরুত্বপূর্ণ?&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;আমরা কোয়ার্টজ উইন্ডোর পিছনে শর্ট-ওয়েভ ইনফ্রারেড (SWIR) হ্যালোজেন উপাদানগুলো ব্যবহার করি; এর ফলে দ্রুত ও সরাসরি তাপ সরবরাহ হয়। ওয়েফারের উপরিভাগে তাপমাত্রা ±০.১°C এর মধ্যে থাকে; আর পুনরাবৃত্তির হার মিলিসেকেন্ডের মধ্যে থাকে। ফলে প্রথম লট ও ১০০০তম লটেও একই তাপমাত্রা বজায় থাকে। এই মডিউলটি ক্লাস ১–১০০-এর জন্য উপযুক্ত; এতে কম গ্যাস নির্গমন হয়, আর কণাগুলোও নিয়ন্ত্রণে থাকে। বেকিং প্রক্রিয়ায় কোনো কণা উৎপন্ন হয় না—এটা টুলের ইন্টারফেসে কণা-নিয়ন্ত্রণ ব্যবস্থার মাধ্যমে নিশ্চিত করা হয়।&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
