Hentikan penggunaan metode pemanasan konvensional: Mengapa IR vakum merupakan solusinya
Jika Anda bekerja di bidang pemrosesan semikonduktor, kemungkinan besar Anda telah menghabiskan banyak waktu untuk menunggu sampai suhu di dalam ruang pemrosesan mencapai tingkat yang diinginkan. Kebanyakan orang masih menggunakan metode pemanasan dengan udara panas, karena itu merupakan metode standar. Namun, masalahnya adalah metode ini sangat lambat. Pada dasarnya, kita hanya memanaskan udara terlebih dahulu, lalu menunggu udara tersebut memanaskan wafer. Di kondisi vakum, hal ini jelas merupakan pemborosan waktu.
Itulah sebabnya kita menggunakan lampu IR vakum. Alih-alih menggunakan media tertentu untuk mentransfer panas, lampu ini menggunakan radiasi elektromagnetik untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Ini merupakan cara yang lebih efisien.
Biaya yang harus dibayar akibat penundaan
Coba pikirkan dari segi fisika. Dengan metode udara panas, kita perlu menunggu sampai suhu di dalam ruang pemrosesan mencapai tingkat yang diinginkan. Prosesnya sangat lambat. Namun dengan IR, transfer energi terjadi hampir secara instan. Meskipun tampak seperti hal yang kecil, tetapi ketika kita beroperasi dalam skala besar, beberapa menit yang dihemat per siklus akan berarti banyak sekali. Artinya, ribuan wafer dapat diproses setiap bulannya. Itu merupakan keuntungan yang besar bagi bisnis Anda.
Mempertahankan kebersihan di kondisi vakum
Bekerja dalam kondisi vakum tentu menambah tingkat kesulitan. Kita tidak bisa menggunakan kipas biasa untuk mendinginkan bagian lampu. Untuk mengatasi hal ini, kita menggunakan kemasan kuarsa khusus serta bahan-bahan yang tidak memancarkan gas. Dengan demikian, wafer tetap bersih dan bebas dari kontaminasi. Selain itu, densitas panas yang dihasilkan sangat tinggi. Kita pun dapat memanaskan area tertentu pada substrat tanpa perlu memanaskan seluruh ruang pemrosesan.
Kekurangan metode ini
Namun, metode ini bukanlah solusi yang sempurna. Radiasi IR berintensitas tinggi dapat merusak komponen listrik, sehingga diperlukan kontrol PID yang sangat tepat. Jika sensor tidak berfungsi dengan baik, suhu wafer bisa melebihi batas yang ditentukan, sehingga wafer bisa rusak sebelum kita menyadarinya. Diperlukan sistem umpan balik yang bereaksi secepat mungkin terhadap perubahan suhu.
Namun, begitu semuanya disesuaikan dengan baik, kita tidak perlu lagi membuang-buang energi untuk memanaskan ruang kosong di dalam chamber. Energi tersebut dapat digunakan untuk memanaskan bagian yang memang perlu dipanaskan.