On the fab floor, ashing isn’t a maybe—it’s the thermal step that strips photoresist clean, without pushing the films underneath. If the temperature drifts or the profile sags, you get residues. Line yield takes a hit, and the lithography stack pays for it.
What matters under the hood
আমরা ashing heater তৈরি করেছি শর্ট-ওয়েভ ইনফ্রারেডের ভিত্তিতে, একটি quartz-halogen emitter array ব্যবহারের মাধ্যমে যা দ্রুত এবং পুনরাবৃত্তিমূলক প্রতিক্রিয়া করে। এর ফলে bake zone জুড়ে wafer-স্তরের একরূপতা ±0.1°C এর মধ্যে থাকে এবং পুরো strip cycle চলাকালীন temperature control setpoint বজায় থাকে। সিস্টেমটি Class 1–100 cleanrooms-এ zero particle generation সহ চলে, যা in-situ monitoring দ্বারা যাচাই করা হয়। এটি 5,000+ ঘন্টা স্থিতিশীল আউটপুট দেয়, যেখানে intensity drift ৫% এর নিচে থাকে।
Why this fits the flow
photoresist প্রক্রিয়াজাতে—soft bake, exposure, develop, hard bake, তারপর ashing—পুনরাবৃত্তিযোগ্য তাপমাত্রাই thermal budget। আমাদের IR heat দ্রুত ramp-up করে, দ্রুত ঠাণ্ডা হয়, এবং প্রতিটি রানেই profile অপরিবর্তিত থাকে। এর ফলে পুনরায় কাজ করার সংখ্যা কমে, বর্জ্য কম হয়, এবং cycle time নির্ভরযোগ্য হয়। শক্তি ব্যবহার কমে কারণ emitter power প্রকৃত লোড অনুযায়ী সামঞ্জস্য হয়, worst-case অনুযায়ী নয়। মডিউলটি বিদ্যমান ট্র্যাক এবং strip টুলগুলিতে standard mechanical ও electrical interfaces দিয়ে ইনস্টল করা যায়।
The practical details
Infrared ashing আপনাকে পরিষ্কার, নিয়ন্ত্রিত তাপ দেয়, তবে optics এবং emitter window এর জন্য কঠোর cleanroom হ্যান্ডলিং দরকার। ইনস্টলেশনের পর দ্রুত alignment এবং thermal mapping করার পরিকল্পনা করুন, এবং particle count নিয়ন্ত্রণে রাখতে ত্রৈমাসিক window inspections নির্ধারণ করুন। এই নিয়ম মেনে চললে প্রক্রিয়াটি স্পেসিফিকেশনের মধ্যে থাকে এবং production line অব্যাহত থাকে।